面向硅片预清洗的臭氧发生器优化方案
05 .28.2026
面向硅片预清洗的臭氧发生器优化方案针对硅片预清洗工序,臭氧发生器(通常用于制备臭氧水,即DIO₃)的优化,核心目标是在不损伤硅片表面(低粗糙度、低金属污染)的前
臭氧啊发生器在 CVD 中的核心应用
05 .21.2026
臭氧啊发生器在 CVD 中的核心应用臭氧(O₃)凭借 2.07 V 的高氧化还原电位(远高于氧气的 1.23 V),在化学气相沉积(CVD)中主要作为高活性、低
臭氧发生器剥离光刻胶后的尾气处理设计原则
04 .23.2026
臭氧发生器剥离光刻胶后的尾气处理设计原则(一)尾气污染物与工况参数光刻胶臭氧剥离工艺以氧气源臭氧为核心反应介质,配套 UV 或低温加热实现光刻胶氧化分解,尾气核