臭氧图书馆
-
臭氧作为氧化前驱体在原子层沉积中的优势分析
臭氧（O₃）在原子层沉积（ALD）中作为氧化前驱体，相比传统的H₂O（水）或O₂等离子体，具有一系列独特的优势，尤其适用于高质量、低温、高保形性的薄膜沉积。以下Read more -
面向硅片预清洗的臭氧发生器优化方案
面向硅片预清洗的臭氧发生器优化方案针对硅片预清洗工序，臭氧发生器（通常用于制备臭氧水，即DIO₃）的优化，核心目标是在不损伤硅片表面（低粗糙度、低金属污染）的前Read more -
臭氧啊发生器在 CVD 中的核心应用
臭氧啊发生器在 CVD 中的核心应用臭氧（O₃）凭借 2.07 V 的高氧化还原电位（远高于氧气的 1.23 V），在化学气相沉积（CVD）中主要作为高活性、低Read more -
臭氧发生器剥离光刻胶后的尾气处理设计原则
臭氧发生器剥离光刻胶后的尾气处理设计原则（一）尾气污染物与工况参数光刻胶臭氧剥离工艺以氧气源臭氧为核心反应介质，配套 UV 或低温加热实现光刻胶氧化分解，尾气核Read more -
钙钛矿太阳能电池：原位臭氧辅助晶粒生长与表面后处理
钙钛矿太阳能电池：原位臭氧辅助晶粒生长与表面后处理臭氧凭借其强氧化性和无残留的特点，在钙钛矿太阳能电池和忆阻器的制备中，主要围绕界面工程、表面后处理这两个方向发Read more -
臭氧对不同材料体系的功函数影响差异
臭氧对不同材料体系的功函数影响差异一、工艺参数对功函数影响的敏感度材料体系臭氧处理后的典型变化机理应用影响TiN （常用作PMOS功函数金属或阻挡层）功函数增加Read more -
臭氧处理影响金属栅极功函数的物理机制
臭氧处理影响金属栅极功函数的物理机制臭氧处理对金属栅极功函数的影响主要通过以下几种物理/化学机制实现：1. 界面氧掺入与偶极子形成金属栅极（如TiN）与高k介质Read more -
科研中臭氧浓度需求范围极宽（1%-15%）？可宽范围调节臭氧源的实现原理
科研中臭氧浓度需求范围极宽（1%-15%）？可宽范围调节臭氧源的实现原理在科研中要实现 1% 到 15%（体积比，即10000 ppm 到 150000 ppmRead more -
Absolute Ozone 2026年代理商授权更新
Absolute Ozone 2026年代理商授权更新 自2019年起，北京同林作为Abasolute ozone在中国总代理，全面负责其在中国市场的销售与Read more -
臭氧发生器“空气源”与“氧气源”在实验中如何选择？对结果有何影响？
臭氧发生器“空气源”与“氧气源”在实验中如何选择？对结果有何影响？臭氧发生器选择“空气源”还是“氧气源”，本质上是在选择臭氧的产生浓度、纯度、稳定性和实验成本之Read more -
MAGNUM 200高效风冷臭氧发生器的五大核心优势
MAGNUM 200高效风冷臭氧发生器的五大核心优势 在臭氧应用领域，效率和浓度是衡量设备性能的关键标尺。来自加拿大Absolute Ozone的MAGNUMRead more -
半导体行业臭氧尾气破坏器常见破坏方式对比
半导体行业臭氧尾气破坏器常见破坏方式对比在半导体制造过程中，臭氧（O₃）被广泛应用于 ALD（原子层沉积）、CVD（化学气相沉积）、光刻清洗、表面氧化处理 等环Read more -
Atlas-H30 型臭氧发生器（带显示屏）
Atlas-H30 型臭氧发生器（带显示屏）Atlas-H30臭氧发生器是一款功能强大、高效节能且结构紧凑的高浓度臭氧制备解决方案。该设备专为实验室及工业水处理Read more