Absolute Ozone板式臭氧发生器,无论您需要用于臭氧水处理的工业臭氧发生器、用于工业的商用臭氧发生器,还是高级氧化系统、半导体ALD应用,我们都能为您提供完美的解决方案。

  • 臭氧浓度高

    臭氧浓度可达到300mg/L,是半导体、药物合成、土壤处理的理想选择。
  • 风 冷

    在+40C的温度下也能很好地工 作,无需支付水,空调和空调 系统的费用。
  • 耐高压

    20-80 PSIG可变压力模型,是土壤修复应用或无法达到稳定氧气压力的理想选择。
  • 体积小

    臭氧产量在30-100g/h范围内的 Absolute Ozone发生器的尺寸 仅为35.5*38*17.8cm。

探索 ABSOLUTE OZONE® 先进的板式臭氧发生器

More About ABSOLUTE OZONE®

从我们的专业顾问处获取有关臭氧问题的所有 答案

  • 工业臭氧应用

    在 Absolute Ozone,我们意识到在当今市场上实施先进技术的重要性以及它如何使我们的客户受益。Absolute Ozone® 臭氧发生器可以以高达 350 g/Nm3 的速率和高达 12%(重量)的浓度转化氧气。
  • 臭氧实验室和半导体

    臭氧气体具有高反应性,可以有效分解多种污染物。在半导体制造中,臭氧气体用于通过将硅晶片暴露于基于臭氧的清洁溶液来去除硅晶片表面的污染物。溶液中的臭氧与污染物发生反应并将其分解,使表面清洁无杂质。
  • 臭氧空气和土壤修复

    从气味控制到土壤修复。臭氧技术可去除空气中的病毒、细菌、孢子和许多其他污染物。最近,臭氧已被用于土壤修复,以清理含有各种土壤污染物的场地。