在原子层沉积(ALD)工艺中使用臭氧的优势

在原子层沉积(ALD)工艺中使用臭氧的优势用于原子层沉积的臭氧 – 它是如何工作的?原子层沉积是一种薄膜沉积技术,可精确控制厚度。它广泛应用于半导体储能、生物医学、光学和其他高科技行业。这种分子层沉积技术基于通过在基板表面上的连续化学反应在原子尺度上精确和受控地生长超薄膜。原子层沉积的基本原理是交替...

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