Atlas H30高浓度臭氧发生器用于原子层沉积(ALD)研究

Atlas H30高浓度臭氧发生器用于原子层沉积(ALD)研究原子层沉积(ALD)是一种精密的薄膜沉积技术,广泛应用于半导体制造、微电子和纳米技术领域。臭氧作为一种强氧化剂,在ALD工艺中具有重要作用。以下是臭氧在ALD中的一些关键应用和注意事项:关键应用前驱体氧化:在ALD过程中,臭氧可以作为氧化...

查看详情

Absolute Ozone臭氧发生器可用于的应用介绍

Absolute Ozone臭氧发生器可用于的应用介绍Absolute Ozone®是模块化发生器,可以组装成系统从15克/小时到高达5公斤/小时的臭氧生产。Atlas 30 UHC产生23克/小时的臭氧,浓度高达重量的23%,或按每个单元提供的性能测试报告中的规定。臭氧发生器设计用于生产各种应用的...

查看详情

Atlas 80臭氧发生器测试现场

Atlas 80臭氧发生器测试现场Atlas 80臭氧发生器,臭氧产生量:80 g/h;额定工作压力:25-45 psig;浓度(重量百分比 O3):14% ;额定工作气体流量:0.1 – 20 SLPM;230 V ~ 10%,50/60 Hz,单相,7.0 A;功耗:650 W;进出气口:1/4...

查看详情

TITAN100高浓度臭氧发生器浓度测试现场

TITAN100高浓度臭氧发生器浓度测试现场北京同林代理的Titan100高浓度臭氧发生器可用于ALD、CLD、药物合成等应用,为了保证浓度的稳定性,同林对其进行浓度测试。视频中将压力、气量、和功率调整完毕后,开始测试,浓度稳定在140mg/L左右,浓度波动在1mg/L内。...

查看详情

在原子层沉积(ALD)工艺中使用臭氧的优势

在原子层沉积(ALD)工艺中使用臭氧的优势用于原子层沉积的臭氧 – 它是如何工作的?原子层沉积是一种薄膜沉积技术,可精确控制厚度。它广泛应用于半导体储能、生物医学、光学和其他高科技行业。这种分子层沉积技术基于通过在基板表面上的连续化学反应在原子尺度上精确和受控地生长超薄膜。原子层沉积的基本原理是交替...

查看详情

咨询热线

13021216681
7*24小时服务热线

关注微信

二维码扫一扫添加微信