氧化层生长臭氧设备现场

氧化层生长臭氧设备现场

臭氧（O₃）在氧化层生长中的应用主要集中在半导体制造和材料科学领域。作为一种强氧化剂，臭氧能够在较低温度下高效促进氧化反应，生成高质量、均匀且致密的氧化层。在热氧化工艺中，臭氧通过高温分解为氧气，增强氧化效率；在化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）中，臭氧作为氧化剂，能够在低温下实现高精度的氧化层生长，适合热敏感材料。此外，臭氧还用于等离子体增强化学气相沉积（PECVD），提升氧化层的均匀性和附着力。在表面处理中，臭氧可清洁和活化基底表面，改善氧化层质量。臭氧的应用优势在于其低温工艺特性、高反应活性以及对氧化层厚度和质量的精确控制，广泛应用于半导体器件、太阳能电池和光学涂层等领域。