典型的臭氧注入系统

Views :
Update time : 2020-12-01

典型的臭氧注入系统

 

臭氧用于去除铁和锰是非常普遍的,并且已经使用了很多年。臭氧与这些金属的反应非常简单直接。在安装用于去除铁和锰的臭氧系统之前,应考虑一些设计注意事项。

确定用于除铁和除锰的臭氧系统的尺寸可能很简单。
必须计算基本的臭氧需求量,以确定氧化铁和锰所需的臭氧量。请记住,水中的所有其他元素可能会与臭氧反应并消耗一些臭氧。必须考虑其他潜在反应,并将其输入计算中。为简单起见,我们假设样品水中只有铁和锰。

 

化学计量的臭氧需求率已在本文件的化学部分中介绍。铁含量为0.43毫克,锰含量为0.88毫克。

 

使用以下公式计算臭氧在水中的剂量:

 

例如,如果每分钟10加仑(GPM)的进水含有3 ppm的铁和0.5 ppm的锰,则将使用以下计算

 

3 ppm铁x 0.43 = 1.29 ppm臭氧消耗量

 

0.5 ppm的锰x 0.44 ppm的臭氧消耗

 

1.29 + 0.44 = 1.73 ppm总臭氧消耗量

 

(3.78 * 60 * 10 GPM * 1.73 ppm)/ 1000 = 3.9 g / hr的臭氧需求量

 

该计算提供了以克/小时(g / hr)为单位的必要臭氧,以氧化铁和锰。为了克服系统效率低下,水温或其他因素,可能需要增加臭氧产量。(这仅用于演示目的。)

Related News
Read More >>
Absolute 臭氧发生器4-20mA开关电源遥控器如何设 Absolute 臭氧发生器4-20mA开关电源遥控器如何设
09 .26.2024
Absolute 臭氧发生器4-20mA开关电源遥控器如何设置4-20mA开关电源遥控器•远程控制臭氧生产水平可以实现4-20mA在10v信号。这种功率控制的功能不是线性的。•远程开关。远程开关必须常...
臭氧在晶圆处理和清洗过程应用介绍 臭氧在晶圆处理和清洗过程应用介绍
09 .13.2024
臭氧在晶圆处理和清洗过程应用介绍在半导体制造中,臭氧的应用主要集中在晶圆处理和清洗过程中的几个方面。由于其强氧化性,臭氧对半导体制造中的某些步骤非常有用。以下是晶圆臭氧应用的几个主要领域:1. 晶圆清...
利用臭氧彻底改变商业洗衣业 利用臭氧彻底改变商业洗衣业
08 .28.2024
臭氧技术正在改变各行各业的商业洗衣系统,包括酒店、监狱、养老院和医院。作为传统方法的有力替代品,臭氧不仅可以提高洗涤材料的清洁度和使用寿命,还可以显著节省能源和成本。通过用冷的臭氧注入水代替热水并减少...
臭氧去除MTBE 臭氧去除MTBE
08 .23.2024
臭氧去除MTBE1979年,甲基叔丁基醚(MTBE)作为氧合剂进入市场,以促进汽油中更清洁的燃烧。地下水和地表水等饮用水资源中MTBE的广泛存在给饮用水安全带来了重大问题。例如,在加利福尼亚州的圣莫尼...